PVD
PVD是真空環境下通過物理方式將材料源氣化,使原子 / 分子 / 離子遷移并沉積在基體表面形成功能薄膜的表面涂層技術,核心優勢是涂層致密耐磨、結合力強、綠色環保。相對于傳統電鍍技術,PVD技術能夠使膜層更加致密均勻,硬度可達 HV2000 以上,耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫性(部分可達 600℃)顯著提升,使用壽命延長 3-5 倍,還可實現抗菌、導電等特種功能。廣泛用于刀具、電子、裝飾等領域。

PVD是真空環境下通過物理方式將材料源氣化,使原子 / 分子 / 離子遷移并沉積在基體表面形成功能薄膜的表面涂層技術,核心優勢是涂層致密耐磨、結合力強、綠色環保。相對于傳統電鍍技術,PVD技術能夠使膜層更加致密均勻,硬度可達 HV2000 以上,耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫性(部分可達 600℃)顯著提升,使用壽命延長 3-5 倍,還可實現抗菌、導電等特種功能。廣泛用于刀具、電子、裝飾等領域。
